产品详情
简单介绍：
MA-5501ML，G3～G5基板用，直立型近接曝光装置，DNK大日本科研
MA-5501ML，G3～G5基板用，直立型近接曝光装置，DNK大日本科研
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详情介绍：
MA-5501ML，G3～G5基板用，直立型近接曝光装置，DNK大日本科研
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基板尺寸和水银灯瓦数及特殊规格可商洽
MA-5501ML，G3～G5基板用，直立型近接曝光装置，DNK大日本科研
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MA-5501ML，G3～G5基板用，直立型近接曝光装置，DNK大日本科研
装载有边缘传感器和间隙传感器的非接触式近接曝光装置。*适合触摸屏及有机EL等的量产。
特长：
能够进行节拍时间约20秒(标准规格机，对位容许值设定为0.5μm时。不含曝光时间。)的高速曝光处理。
利用直读式间隙传感器与独自的控制系统,能够高速度和高精度地设定掩膜与基板间的近接间隙 。
可配置严格控制处理部位温度环境的温控机房。为了防止因热而引起的基板伸缩,还可选用基板台温度调控系统。
可选择配置基板台温度控制系统及掩膜冷却系统，以防止掩膜及玻璃基板因温度差而引起的伸缩。(选购项)
能够装载存放5张掩膜的掩膜存放库
| MA-5501ML | MA-5701ML | ||||
| 基板尺寸 | 370 x 470mm | 550 x 650mm | |||
| 对位 | 非接触预对位～自动对位 | ||||
| 间隙 | 拥有传感性能 | ||||
| 光源 | 超高压水银灯 ：2kW or 3.5kW or 5kW | 超高压水银灯 ：10kW | |||
| 外观尺寸及重量 | 本体尺寸 |
W2400 x D2480 x H2290mm (另有控制箱、局部空调、冷水机) |
W3600 x D3870 x H2500mm (另有控制箱、局部空调、冷水机) |
||
| 本体重量 | 1500kg | 1900kg | |||
| 光源重量 | 500kg | 1100kg | |||
| 无尘机房重量 | 250kg | 300kg | |||
| 选购项 | 掩膜冷却、基板台温度调节、温控机房、特殊对位照明 | ||||
| 用途 | 触摸屏、彩色滤光片、有机EL、C－STN、电子纸等 | ||||
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