产品详情
简单介绍：
MX-1201，无掩膜曝光装置，小批量生产直描曝光，DNK大日本科研DSLY0505
MX-1201，无掩膜曝光装置，小批量生产直描曝光，DNK大日本科研DSLY0505
MX-1201，无掩膜曝光装置，小批量生产直描曝光，DNK大日本科研DSLY0505
详情介绍：
MX-1201，无掩膜曝光装置，小批量生产直描曝光，DNK大日本科研DSLY0505
MX-1201，无掩膜曝光装置，小批量生产直描曝光，DNK大日本科研DSLY0505
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MX-1201，无掩膜曝光装置，小批量生产直描曝光，DNK大日本科研DSLY0505
MX-1201，无掩膜曝光装置，小批量生产直描曝光，DNK大日本科研DSLY0505
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MX-1201，无掩膜曝光装置，小批量生产直描曝光，DNK大日本科研DSLY0505
MX-1201，无掩膜曝光装置，小批量生产直描曝光，DNK大日本科研DSLY0505
MX-1201，无掩膜曝光装置，小批量生产直描曝光，DNK大日本科研DSLY0505
MX-1201，无掩膜曝光装置，小批量生产直描曝光，DNK大日本科研DSLY0505
MX-1201，无掩膜曝光装置，小批量生产直描曝光，DNK大日本科研DSLY0505
利用独自的高速描画「Point Of Array方式」技术直接描画图形的装置。
特长：
能够用于研究开发、试作、小批量生产等的直描曝光。
能够对应以**PCB、高密度Packaging、平板显示(FPD)等为首的MEMS等微细加工领域。
由于在光刻工艺中不需要掩膜，因而可以*大限度地降低开发成本和缩短市场供应时间。
此外,还可以根据客户需求,提供相应的装置构造。
| MX-1201 | MX-1201 | MX-1201E | MX-1204 | MX-1702E | |
| *小线幅 (※1) | 5μm | 5μm | 3μm | 1μm | 10μm |
| 数据分辨率 | 0.5μm | 0.5μm | 0.25μm | 0.122μm | 1.0μm |
| *大基板尺寸 | 200 x 200mm | 200 x 200mm | 200 x 200mm | 150 x 150mm | 550 x 650mm |
| 有效曝光范围 | 200 x 200mm | 200 x 200mm | 200 x 200mm | 150 x 150mm | 550 x 650mm |
| 激光主波长 | 405±5nm | 375±5nm | 405±5nm | 375±5nm | 405±5nm |
| 曝光扫描速度 | 43.9ｍｍ/ｓ | 22.5ｍｍ/ｓ | 10.9ｍｍ/ｓ | 92.2ｍｍ/ｓ | |
| 光学引擎装配数量 | 1 | 7 | |||
※1 因光刻胶和显影条件而异。
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