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简单介绍:
无尘室用,超大型PDP基板用直立型曝光装置,DNK大日本科研DSLY0505
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实现PDP用世界*大基板(42英寸16面)均匀曝光的近接曝光机。
特长:
支撑高精度的独自技术
<光学间隙传感器> 在非接触的条件下,高速度和高精度地设定近接间隙。
<高速图像处理技术> 掩膜以及掩膜与基板的高精度对位。
稳定搬送
直立配置掩膜台和基板台,不需要补正因掩膜和掩膜台以及基板台的自身重量而造成的弯曲变形。
无尘措施
在无尘化要求更加严格的CF用曝光装置等的经验和设计的基础上,采取了减少驱动部微粒子发生及考虑到气流的无尘对策。
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