产品详情
简单介绍：
MUM系列，MEMS用曝光装置，日本曝光装置，DNK大日本科研DSLY0505
MUM系列，MEMS用曝光装置，日本曝光装置，DNK大日本科研DSLY0505
MUM系列，MEMS用曝光装置，日本曝光装置，DNK大日本科研DSLY0505
详情介绍：
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在曝光过程中，通过移动掩膜来控制光刻胶表面的曝光能量分布。能够制作有任意曲面及倾斜的三维微细构造体。
特点：
采用独自的镜面・镜头光学系统,实现**均匀的照射。
配备有可设定非接触・面内均一间隙的间隙传感器和对应多层曝光的显微镜、X・Y・θ轴对位台的对位系统。
采用Moving UV mask法(使用Piezo Positioning Stage,使掩膜在曝光中微细移动)能够控制厚膜光刻胶的侧壁倾斜角度,形成三维微细构造体。
| MUM系列 | ||
| 掩膜尺寸 | Max 9" x 9" x t3.0 mm | |
| 基板尺寸 | Max Φ8"(Wafer) | |
| 光源 | 超高压水银灯 ：500W or 1kW | |
| 外观尺寸及重量 | 本体尺寸 | W2120 x D1305 x H1850 mm |
| 本体重量 | 640kg | |
※基板尺寸和水银灯瓦数及特殊规格可商洽
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