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薄膜检测	CVD(化学气相沉积）	提拉涂膜机（浸渍、浸润涂覆）	旋转涂膜机（匀胶机）	低真空镀膜机	化学气相沉积设备（CVD、PECVD、LPCVD等
蒸发镀膜设备	丝印机	喷雾热解制膜机	高真空镀膜机

产品图片	产品名称/型号	产品简单介绍
	超声雾化热解涂覆薄膜设备 - MSK-SP-04-LD	MSK-SP-04-LD是一款超声喷雾热解设备，它可以**控制溶液化学计量比、雾粒的喷出速度和雾粒大小等参数。采用步进电机和微处理器来控制容积泵来**输送溶剂。一个超声波雾化器可以制备厚度较薄的涂层，并且由一步进电机控制可在X轴和Y轴方向移动，以确保涂层的均匀性。同时基底温度可以进行控制，以满足实验需要。
	VTC-200P真空涂层机	VTC-200P真空涂层机适用于半导体、晶体、光盘、制版等表面涂覆工艺。本机可用于强酸、强碱性涂覆溶液的涂膜制备。
	微型吸盘	微型吸盘与VTC-100配用，是针对微小样片的固定而设计。选用上等塑胶制作而成，具有操作方便，吸附稳定的优点。
	ZKXB-B真空吸笔	ZKXB-B真空吸笔用于在实验过程中取放平面微小样件，能够避免使用镊子等传统工具对样件造成损坏。可与VTC-100旋转涂膜机及微型吸盘配套使用。
	ZKXB-A真空吸笔	ZKXB-A真空吸笔用于在实验过程中取放平面微小样件，能够避免使用镊子等传统工具对样件造成损坏。可与VTC-100旋转涂膜机及微型吸盘配套使用。
	VTC-50型 旋转涂膜机	VTC-50型 旋转涂膜机(原型号TC-100) 能够瞬间提供可控高旋转速度，迅速将液体、胶状体等材料在衬底上成膜。由于采用铸铝结构，在高转速下运行平稳。
	VTC-200 真空旋转涂膜机	VTC-200真空旋转涂膜机主要应用于实验室中薄膜的快速形成；VTC-200 真空旋转涂膜机是利用涂层机的高速旋转，使粘滞系数较大的胶体、溶液等材料均匀的涂覆在样品的表面，适合于大专院校、科研院所、工矿企业使用。
	VTC-100真空旋转涂膜机	VTC-100真空旋转涂膜机主要应用于实验室中薄膜的形成；利用涂层机的高速旋转，使粘滞系数较大的胶体、溶液等材料均匀的涂覆在样品的表面，适合于大专院校、科研院所、工矿企业使用。
	5英寸近距离蒸发镀膜炉	OTF-1200X-RTP-II-55英寸近距离蒸发镀膜炉是一款快速热处理炉，其炉腔体是一直径为11英寸的石英管。此款设备专门实际针对于热蒸发或CSS（Close Spaced Sublimation）镀膜实验，其镀膜面积可达到5"x5"。此款高温炉的加热元件是两组红外灯管（分别位于顶部和底部），*大升温速率为20ºC/s 。采用PID方式进行温度调节，可设置30段升降温程序。仪器面板上安装有RS485接口，可配用控
	GSL-1100X-SPC-16单靶等离子溅射仪	GSL-1100X-SPC-16单靶等离子溅射仪是一款紧凑型的等离子溅射仪，可进行金、铂、铟、银等多种金属的溅射镀膜，样品直径可达50mm，镀膜厚度可达300Å，特别适用于SEM样品的镀膜。
	GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪	GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪是依据二极（DC）直流溅射原理设计而成的*简单、可靠、经济的镀膜设备，适用于实验室各种复合膜样品的制备，以及非导体材料实验电极的制作。
	500W直流等离子磁控溅射镀膜仪--VTC-2D	VTC-2DC是一款小型的直流（DC）等离子体磁控溅射镀膜仪系统，系统中包含了所有所需的配件，如500W（600V）的DC电源、2"的磁控溅射头、石英真空腔体、真空泵和温度控制器等。对于制作一些金属薄膜，它是一款物美价廉的实验手。
	300W射频等离子磁控溅射镀膜仪	VTC-2RF是一款小型的射频（RF）等离子体磁控溅射镀膜仪系统，系统中包含了所有所需的配件，如300W（13.5MHz）的RF电源、2"的磁控溅射头、石英真空腔体、真空泵和温度控制器等。对于制作一些金属薄膜及非金属薄膜，它是一款物美价廉的实验帮手。
	OTF-1200X-RTP-II 快速蒸发管式炉	OTF-1200X-RTP-II是一款快速蒸发管式炉，专门针对于用PVD或CSS法来制作薄膜。此款管式炉炉管直径为11" OD，炉管内载样盘可放置3" 的圆形或2"x2"的方形基片。加热元件为两组红外灯管，分别安装在腔体的顶端和底部，其升温速率高达20ºC/S 。温控系统为PID30段程序化控制，控温精度为+/-1ºC。仪器面板上带有RS485接口，若仪表内配有控温软件，就可将升温程序和曲线导出.
	GSL-1100X-SPC16-3 等离子3靶溅射仪	GSL-1100X-SPC16-3 等离子3靶溅射仪是一款经过CE认证的紧凑型等离子镀膜机。本机是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的，*简单、可靠、经济的镀膜设备。它的特别之处是在一个真空室内设计安装了三个靶。旋转样品台，可以依次在同一样品上涂覆三种材料。适用于实验室的各种复合膜样品制备，及非导体材料实验电极制作。
	带有预热系统的滑动PECVD	OTF-1200X-50-II-4CV-PE-MSL是一款双温区的PE-CVD管式炉系统，组成部分为500W的射频发生器、滑动速度可控的双温区滑轨炉，预热炉（作用为使固体原料蒸发）和德国进口的无油泵。此款PE-CVD对于生长纳米线或用CVD，方法来制作各种薄膜是一款新的探索工具。
	1700℃单温区三通道混气CVD系统	GSL-1700X-F3LV是一款CE认证的管式炉CVD系统，其真空泵采用双旋片式，混气系统采用三路浮子供气系统，*高温度可以达到1700°C，真空度可达到5x10-2 torr ，可以混合1-3种气体。
	三温区三通道混气CVD系统	三温区三通道混气CVD系统是一款通过CE认证的三温区管式炉CVD系统，其炉管直径为60mm,其真空泵采用双旋机械泵，混气系统为3路浮子混气系统。此高温炉烧结温度可达1700℃，真空度可达到5x10-2 torr ，可以混合1-3种气体。
	九通道混气高真空CVD系统	九通道混气高真空CVD系统GSL-1700X-80-HVC9 is CE certified 80mm diameter alumina tube furnace with vacuum pump system (up to 10-5 torr) and 9 channel precision digital Mass flow-meters, which can control nine types of gases f
	1700°C二通道混气高真空CVD系统-GSL-1700X-4-HVC	GSL-1700X-4-HVC是一款CE认证的二通道高真空CVD系统，其炉管直径为4英寸，它是由二路质子混气系统和高真空机组组成，其*高工作温度可达1600℃，极限真空度可达 to 10^-5 torr。混气系统可以对两种气体进行**的混气，然后导入到管式炉内部。
	多通道质量控制高真空PECVD管式炉系统	为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的活性来促进反应，因而这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积法（PECVD） 我公司供应的产品符合国家有关环保法律法规的规定（含采购商ISO14000环境体系的要求），不会造成环境污染； 该产品符合含采购商OHSMS18000职业**健康管理体系标准的要求，不会对接触产品的人员健康造成伤害！
	1200℃Mini型 2通道CVD系统	OTF-1200X-S50-2F迷你型CVD管式炉，是一款通过CE认证的可开启式管式炉，能使样品加热到1200℃。左法兰上安装一个数字式真空显示计，右法兰上安装有一KF-25接口，可以与机械泵相连接（抽速为226L/m）。同时左法兰上安装有φ6.35的卡套接头，使得炉体可与两路混气系统相连接。精-确的控温系统提供30段升温和降温程序，其控温精-确度为+/- 1 ℃ 。

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