多功能超高倍显微仪 - 南京康氏保健制品有限公司

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产品图片	产品名称/型号	产品简单介绍
	冷台 K25X 冷台	EMITECH K25X 冷台 (For ESEM、VP、EP及SEM) EMITECH K25X 是通过Peltier制冷的扫描电镜冷台，尤其用于可变真空和环境扫描电镜中。有些样品在室温下较敏感，容易产生损坏或发生异常。通过冷台可使样品冷却至零度以下，避免样品的损害。冷台放置在现有的扫描电镜样品台上，经过设计，可用于当今各种品牌的SEM。扫描电镜上的冷台具有液体循环进行二次冷却，
	高真空冷冻干燥仪 K775X 高真空冷冻干燥仪	EMITECH K775X 高真空冷冻干燥仪 ——液氮制冷 K775X涡轮冷冻干燥仪能在-140oC以下的低温工作。该仪器装有涡轮分子泵，其前级泵为旋转真空泵。低温是通过使用系统中的杜瓦瓶及液氮传导冷台获得，并且能维持低温时间达数小时。如果需要，也可以人工加灌。更适宜的配置是选用含有水平传感器以及30升或60升耐压杜瓦瓶的液氮自动填装系统，可给予数天的免维护操作。待冷冻样品通过带有样品
	干燥仪 K750X 冷冻干燥仪	EMITECH K750X 冷冻干燥仪 ——Peltier制冷型 K750X冷冻干燥仪，采用Peltier热电调温样品台，用旋转机械泵来抽真空。该仪器的冷冻干燥温度能达到-60℃。可备选15℃的水冷装置。温度和定时器时间能够预先设置，干燥过程可自动完成。在干燥过程的*后可使样品达到室温,或者在包埋前进行相继加热。一次性的干燥剂容器放置在制样腔室中
	干燥仪 K850临界点干燥仪	英国Emitech K850临界点干燥仪临界点干燥之所以称为临界点干燥，因为它存在状态的连续性，即介质在液态和气态之间无明显的区别，分界面的表面应力降到零。这种现象具有特定压力时存在一定的温度和压力下，被称为临界点。零表面应力这种条件可用于干燥生物样品，避免了表面应力对试样的损坏。我们经常需要对生物样品进行脱水，但水的临界点为+374℃及3212 p.s.i.，很不方便并且容易损坏试
	多层溅射镀膜系统 SC3000多层溅射镀膜系统	EMITECH SC3000多层溅射镀膜系统 ——大样品室，高分辨率 SC3000溅射仪系统可对12英寸（300mm）晶圆进行喷镀。它具有多靶溅射，在不破坏真空的情况下，可进行三层顺序涂层。此仪器为高真空、高分辨率镀膜系统，它可进行精细及**、可重复的镀膜。 SC3000中配有三个磁电管靶，可镀超大直径的样品，加之可旋转的样品台，保证了均匀沉积。这种方式不需要特大的靶面，而用标准靶即可
	三靶溅射镀膜仪 K675X 三靶溅射镀膜仪	EMITECH K675X 三靶溅射镀膜仪 ——高分辨率，大样品镀铬或其它金属 K675X溅射镀膜仪可用于8英寸（200mm）晶圆镀膜。主机系统具有双齿转动样品台，可进行渐进的椭圆形转动，这样使得溅射沉积更均匀。 K675X溅射镀膜系统装有磁电管靶可增加溅射效率，它使用低��压，可得到薄而精细的涂层。在K675X中放置了三个靶面，可镀非常大直径的样品，加上旋转样品台，保证了均匀沉积。
	溅射镀膜仪 K650X溅射镀膜仪	K650X溅射镀膜仪(三靶大样品室) K650X具有三个磁控管，可对大样品进行喷镀，样品台可旋转，保证均匀沉积。这种方法可利用标准靶面，不需要特别的大靶面。这种三头靶面系统特别适用于半导体晶片工业。本系统使用磁电管靶，在使用低电压时提高了效率，并且能得到非常精细的颗粒，由于是冷溅射，所以无需冷却靶面或样品台。仪器装有60mm直径、0.1mm厚的金靶（或用户选择
	高分辨率溅射仪 K575X 高分辨率溅射仪	EMITECH K575X 高分辨率溅射仪 ——Peltier制冷型 K575X使用“涡轮”泵，前级为旋片式机械泵，整个抽真空过程为自动控制。真空度可调整，以适应铬或其它易氧化金属，以及金靶等不同材料要求，定时器可设置成不同的溅射时间。本系统装配了磁控管靶，靶面直径为54 mm，可快速更换靶材。溅射头用Peltier制冷，可得到高性能、精细颗粒的涂层（无需水冷却）。溅射时参数可
	离子溅射镀膜机 K500 离子溅射镀膜机	EMITECH K500 离子溅射镀膜机 K500X系统使用磁电管靶，使得在使用低电压时提高了效率，并且能得到非常精细的颗粒，由于是冷溅射，所以无需冷却靶面或样品台。 K500X的样品台适合放置各种样品。腔室的设计很容易放置和移走样品。本仪器装有金靶靶材（或其它可选靶材），靶材更换方便，可选靶材包括金/钯，铂/钯和铂。提供合适的性能价格比。

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