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产品资料

离子溅射镀膜机

离子溅射镀膜机
  • 如果您对该产品感兴趣的话,可以
  • 产品名称:离子溅射镀膜机
  • 产品型号:K500 离子溅射镀膜机
  • 产品展商:其他品牌
  • 产品文档:无相关文档
简单介绍
EMITECH K500 离子溅射镀膜机 K500X系统使用磁电管靶,使得在使用低电压时提高了效率,并且能得到非常精细的颗粒,由于是冷溅射,所以无需冷却靶面或样品台。 K500X的样品台适合放置各种样品。 腔室的设计很容易放置和移走样品。 本仪器装有金靶靶材(或其它可选靶材),靶材更换方便,可选靶材包括金/钯,铂/钯和铂。提供合适的性能价格比。
产品描述
特点 ·低电压溅射 ·高分辨率精细涂层(金颗粒达2 nm) ·均匀厚度沉积(扫描电镜一般厚度为20nm 或200A) ·165 mm(6英寸)腔室直径 ·可接膜厚监视器,实时监测镀覆层厚度 ·无需冷却样品台 ·**的再次涂层 ·膜厚度重复性好 ·容易装载或卸载样品 ·可预设沉积厚度 性能指标 1.仪器尺寸:450mm W x 350mm D x 175mm H 2.工作腔室:硼硅酸盐玻璃 165mm Dia x 125mm H 3.**钟罩:聚碳酸酯 4.重量:18公斤 5.靶:60 mm 直径 x 0.1mm 厚(金作为标准靶面) 6.样品台:60 mm直径 7.真空范围:ATM-1x10-2 mbar 8.沉积电流范围:0-50mA 9.沉积速率:0-25nm/分 10.溅射时间:0-4 分钟 11.预设置针阀:控制氩 12.电源:230 伏 50Hz (10 amp max. including Pump)
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