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产品资料

多层溅射镀膜系统

多层溅射镀膜系统
  • 如果您对该产品感兴趣的话,可以
  • 产品名称:多层溅射镀膜系统
  • 产品型号:SC3000多层溅射镀膜系统
  • 产品展商:其他品牌
  • 产品文档:无相关文档
简单介绍
EMITECH SC3000多层溅射镀膜系统 ——大样品室,高分辨率 SC3000溅射仪系统可对12英寸(300mm)晶圆进行喷镀。它具有多靶溅射,在不破坏真空的情况下,可进行三层顺序涂层。 此仪器为高真空、高分辨率镀膜系统,它可进行精细及**、可重复的镀膜。 SC3000中配有三个磁电管靶,可镀超大直径的样品,加之可旋转的样品台,保证了均匀沉积。这种方式不需要特大的靶面,而用标准靶即可
产品描述
仪器特点和优点 ● 模块化控制电子学单元 ● 清洁的真空设计 ● 旋转样品台 ● 多靶溅射(配有溅射清洁光闸) ● LCD 状态/数据登录显示 ● 用户菜单输入可存贮10个方案 ● LCD显示(真空、时间及电流) ● 灵敏的真空测量头(操作真空全范围显示) ● 具有ISO 100 Flange涡轮分子泵抽气系统,(可选更大的泵)240 L/sec ● 整个全自动程序包括净化非常快—15分钟 ● Peltier冷却靶面—无需循环水 ● 不用打开真空即可进行三层顺序镀膜 技术规格 仪器尺寸:450mm W x 500mm D x 300mm H (整个高度650mm) 重量:55公斤 工作腔室:不锈钢 300mm Dia x 200mm H(具有观察窗口) 靶:三靶54 mm 直径 x 0.3mm 厚铬作为标准靶材(各种靶材可选,如:金、铂、金/钯合金) 旋转样品台:适合6英寸及12英寸晶圆可调, 与靶的距离为60mm 真空范围:ATM-1x10-5 mbar 操作真空:1 x 10-3 mbar到 1 x 10-4 mbar 沉积电流:0-750mA 沉积速度:0-10nm/分 溅射定时:0-4 分钟 电源:230 伏 50Hz (包括泵*大电流为10安培) 115 伏 60Hz (包括泵*大电流为20安培) Services:Argon - Nominal 10 psi Nitrogen:Nominal 10 psi (Argon may be used as common gas) 前级旋转泵:No5真空泵, 85L/Min complete with Vacuum Hose and Oil Mist Filter. 8m3/Hr.
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