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产品资料

三靶溅射镀膜仪

三靶溅射镀膜仪
  • 如果您对该产品感兴趣的话,可以
  • 产品名称:三靶溅射镀膜仪
  • 产品型号:K675X 三靶溅射镀膜仪
  • 产品展商:其他品牌
  • 产品文档:无相关文档
简单介绍
EMITECH K675X 三靶溅射镀膜仪 ——高分辨率,大样品镀铬或其它金属 K675X溅射镀膜仪可用于8英寸(200mm)晶圆镀膜。主机系统具有双齿转动样品台,可进行渐进的椭圆形转动,这样使得溅射沉积更均匀。 K675X溅射镀膜系统装有磁电管靶可增加溅射效率,它使用低电压,可得到薄而精细的涂层。 在K675X中放置了三个靶面,可镀非常大直径的样品,加上旋转样品台,保证了均匀沉积。
产品描述
仪器特点 ● 配置三个靶面 ● 涡轮分子泵抽气系统 ● 全自动控制 ● Peltier冷却溅射头 ● 精细涂层(0.5nm Cr粒子) ● 可倾斜的特殊旋转台作为标准配置 ● 薄膜沉积(典型为5nm) ● 直径为300mm腔室 ● 可选双溅射头 仪器优点 ● 可对大样品进行镀膜,如:8英寸晶圆 ● 可溅射易氧化金属的精细颗粒,如:铬或铱 ● 易操作 ● 无需水冷却 ● 超高分辨率,可复制涂层 ● 适应各种样品 ● 重复膜厚沉积 ● 样品容易装载和卸载,包括8英寸晶圆 ● 不需要打开真空即可进行两种金属顺序涂层 技术规格 仪器尺寸:450mm W x 500mm D x 300mm H (总高 630mm) 工作腔室:硼硅酸盐玻璃 300mm Dia. x 20mm H **钟罩:聚碳酸酯 重量:42公斤 靶:54 mm 直径 x 0.3mm 厚x 3(铬作为标配靶材) 旋转样品台:可调的6 至 8 英寸晶圆尺寸,到靶距离60mm 真空范围:ATM-1x10-5 mbar 沉积电流范围:0-450mA 沉积速率:0-15nm/分 溅射定时:0-4 分钟 电源:230 伏 50Hz(包括泵*大电流为8安培) 115 伏 60Hz(包括泵*大电流为16安培) Services Argon - Nominal 10 psi; Nitrogen- Nominal 10 psi (Argon may be used as common gas) 真空泵:No 2. 泵complete with Vac. Hose & Oil Mist Filter 35L/Min 2m3/Hr
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