您好,欢迎来到仪表展览网!
请登录
免费注册
分享
微信
新浪微博
人人网
QQ空间
开心网
豆瓣
会员服务
进取版
标准版
尊贵版
|
设为首页
|
收藏
|
导航
|
帮助
|
移动端
|
官方微信扫一扫
微信扫一扫
收获行业前沿信息
产品
资讯
请输入产品名称
噪声分析仪
纺织检测仪器
Toc分析仪
PT-303红外测温仪
转矩测试仪
继电保护试验仪
定氮仪
首页
产品
专题
品牌
资料
展会
成功案例
网上展会
词多 效果好 就选易搜宝!
南京康氏保健制品有限公司
新增产品
|
公司简介
注册时间:
2005-10-09
联系人:
电话:
Email:
首页
公司简介
产品目录
公司新闻
技术文章
资料下载
成功案例
人才招聘
荣誉证书
联系我们
产品目录
多功能超高倍显微仪
制样设备
当前位置:
首页
>
产品目录
>
多功能超高倍显微仪
>
制样设备
产品图片
产品名称/型号
产品简单介绍
冷台
K25X 冷台
EMITECH K25X 冷台 (For ESEM、VP、EP及SEM) EMITECH K25X 是通过Peltier制冷的扫描电镜冷台,尤其用于可变真空和环境扫描电镜中。有些样品在室温下较敏感,容易产生损坏或发生异常。通过冷台可使样品冷却至零度以下,避免样品的损害。冷台放置在现有的扫描电镜样品台上,经过设计,可用于当今各种品牌的SEM。 扫描电镜上的冷台具有液体循环进行二次冷却,
高真空冷冻干燥仪
K775X 高真空冷冻干燥仪
EMITECH K775X 高真空冷冻干燥仪 ——液氮制冷 K775X涡轮冷冻干燥仪能在-140oC以下的低温工作。该仪器装有涡轮分子泵,其前级泵为旋转真空泵。低温是通过使用系统中的杜瓦瓶及液氮传导冷台获得,并且能维持低温时间达数小时。如果需要,也可以人工加灌。 更适宜的配置是选用含有水平传感器以及30升或60升耐压杜瓦瓶的液氮自动填装系统,可给予数天的免维护操作。 待冷冻样品通过带有样品
干燥仪
K750X 冷冻干燥仪
EMITECH K750X 冷冻干燥仪 ——Peltier制冷型 K750X冷冻干燥仪,采用Peltier热电调温样品台,用旋转机械泵来抽真空。该仪器的冷冻干燥温度能达到-60℃。可备选15℃的水冷装置。 温度和定时器时间能够预先设置,干燥过程可自动完成。在干燥过程的*后可使样品达到室温,或者在包埋前进行相继加热。 一次性的干燥剂容器放置在制样腔室中
干燥仪
K850临界点干燥仪
英国Emitech K850临界点干燥仪 临界点干燥 之所以称为临界点干燥,因为它存在状态的连续性,即介质在液态和气态之间无明显的区别,分界面的表面应力降到零。这种现象具有特定压力时存在一定的温度和压力下,被称为临界点。零表面应力这种条件可用于干燥生物样品,避免了表面应力对试样的损坏。 我们经常需要对生物样品进行脱水,但水的临界点为+374℃及3212 p.s.i.,很不方便并且容易损坏试
多层溅射镀膜系统
SC3000多层溅射镀膜系统
EMITECH SC3000多层溅射镀膜系统 ——大样品室,高分辨率 SC3000溅射仪系统可对12英寸(300mm)晶圆进行喷镀。它具有多靶溅射,在不破坏真空的情况下,可进行三层顺序涂层。 此仪器为高真空、高分辨率镀膜系统,它可进行精细及**、可重复的镀膜。 SC3000中配有三个磁电管靶,可镀超大直径的样品,加之可旋转的样品台,保证了均匀沉积。这种方式不需要特大的靶面,而用标准靶即可
三靶溅射镀膜仪
K675X 三靶溅射镀膜仪
EMITECH K675X 三靶溅射镀膜仪 ——高分辨率,大样品镀铬或其它金属 K675X溅射镀膜仪可用于8英寸(200mm)晶圆镀膜。主机系统具有双齿转动样品台,可进行渐进的椭圆形转动,这样使得溅射沉积更均匀。 K675X溅射镀膜系统装有磁电管靶可增加溅射效率,它使用低电压,可得到薄而精细的涂层。 在K675X中放置了三个靶面,可镀非常大直径的样品,加上旋转样品台,保证了均匀沉积。
溅射镀膜仪
K650X溅射镀膜仪
K650X溅射镀膜仪(三靶大样品室) K650X具有三个磁控管,可对大样品进行喷镀,样品台可旋转,保证均匀沉积。这种方法可利用标准靶面,不需要特别的大靶面。 这种三头靶面系统特别适用于半导体晶片工业。 本系统使用磁电管靶,在使用低电压时提高了效率,并且能得到非常精细的颗粒,由于是冷溅射,所以无需冷却靶面或样品台。 仪器装有60mm直径、0.1mm厚的金靶(或用户选择
高分辨率溅射仪
K575X 高分辨率溅射仪
EMITECH K575X 高分辨率溅射仪 ——Peltier制冷型 K575X使用“涡轮”泵,前级为旋片式机械泵,整个抽真空过程为自动控制。 真空度可调整,以适应铬或其它易氧化金属,以及金靶等不同材料要求,定时器可设置成不同的溅射时间。 本系统装配了磁控管靶,靶面直径为54 mm,可快速更换靶材。 溅射头用Peltier制冷,可得到高性能、精细颗粒的涂层(无需水冷却)。 溅射时参数可
离子溅射镀膜机
K500 离子溅射镀膜机
EMITECH K500 离子溅射镀膜机 K500X系统使用磁电管靶,使得在使用低电压时提高了效率,并且能得到非常精细的颗粒,由于是冷溅射,所以无需冷却靶面或样品台。 K500X的样品台适合放置各种样品。 腔室的设计很容易放置和移走样品。 本仪器装有金靶靶材(或其它可选靶材),靶材更换方便,可选靶材包括金/钯,铂/钯和铂。提供合适的性能价格比。
若网站内容侵犯到您的权益,请通过网站上的联系方式及时联系我们修改或删除